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       以上的介紹中也偶爾的提到了CVD法，今天就給大家介紹一下其玻璃原料仍是金屬氧化物及金屬有機鹽，我們玻璃瓶生產廠家要求在鍍膜溫度下易氣化，氣化中不分解而且蒸汽壓高。易化氣 的原料由載流氣向玻璃表面提供。反應在熱玻璃表面進行并形成薄膜，反應復產物的氣體由排氣筒排出。玻璃瓶廠要實現膜厚均勻，原料氣在熱玻璃表面應為層流流動，要保證這一點在噴嘴處設有擋板，使反應物質各型其道均勻留置熱玻璃板面處。
       我們在此研究了影響CVD成膜的重要因素中除了玻璃的表面的溫度及 原料的熱分解性能外，還能與原料氣溫度，CVD裝置溫度，噴嘴溫度等條件相關，玻璃瓶廠就研究了是否讓流層流動將會影響膜厚度的均勻性及膜的物理性質。
        所謂的在錫槽內安裝CVD 的在線鍍膜生產觀念是在錫槽內利用玻璃的熱量及槽內的還原氣氛，可以將幾個鍍膜CVD，組合徐州玻璃瓶廠在此鍍出多層膜。由于玻璃通過浮法線的速度快數米分鐘，玻璃瓶廠對原料的要求其成膜速度快。浮法在線CVD鍍膜以使用化的膜材料有SIO,SI,TIN,SNO.除了做LOWE玻璃膜除外，還制備熱反射膜，汽車用隔熱膜，顯示器件透明導電膜的底模，防止玻璃中的堿離子溶出影響膜功能。